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中芯国际:14nm良率达业界水准、先进工艺已有10多款芯片流片

2020/11/22 作者:智造文记 来源:快科技 点击:

  摘要:中芯国际:14nm良率达业界水准、先进工艺已有10多款芯片流片, 日前,中芯国际联席CEO梁孟松博士在投资者调研会议

  日前,中芯国际联席CEO梁孟松博士在投资者调研会议上透漏了公司最新进展,特别是在先进工艺上的最新情况。
 

  梁博士表示,14 纳米在去年第四季度进入量产,良率已达业界量产水准。随着我们展现出的研发执行能力,客户对中芯国际技术的信心也在逐步增强,我们将持续提升产品和服务竞争力,引入更多的海内外客户。
 

  我们第二代先进工艺技术n+1正在稳步地推进中,n+1正在做客户产品验证,目前进入小量试产,产品应用主要为高性能运算。
 

  相对于第一代先进技术,第二代技术平台以低成本客制化为导向,第二代相较于14纳米,性能提高20%,功率减少57%,逻辑面积减少63%,集成系统面积减少55%。
 

  总体来说,我们正在与国内和海外客户合作10多个先进工艺流片项目,包含14纳米及更先进工艺技术。
 

  梁博士表示,我们相信,随着5G、物联网、教育和工作场所的资讯数位化的兴起,集成电路行业将涌现巨大的市场机遇。
 

  为了推动公司的创新与发展,我们将持续推进研发工作,来服务并满足客户需求和不断增长的数字消费市场,新专案、新节点的开展需要时间,我们将一步一脚印地稳步开发先进工艺技术。

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